日本のCMPスラリー市場、2035年には31億米ドルに！半導体製造が成長を牽引する未来に注目！

2026-05-05

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2035年には市場規模が31億米ドルに！

調査結果によると、日本のCMPスラリー市場は2025年には14億米ドルと評価されていますが、なんと2035年末には31億米ドルという巨大な市場にまで膨らむと予測されています。2026年から2035年までの年平均成長率（CAGR）は9.3%と、かなりの勢いで成長していくことでしょう。2026年末には、早くも15億米ドルに達すると予想されているので、これからの動向から目が離せませんね！

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SiC（シリコンカーバイド）の採用拡大が市場を後押し！

この市場成長の大きな原動力となっているのが、先進的な半導体アプリケーションでシリコンカーバイド（SiC）の採用が増えていることです。SiCは、従来のシリコンに比べて熱伝導率が高く、広いバンドギャップを持ち、電子移動度も向上しているという優れた特性を持っています。そのため、自動車や航空宇宙、エネルギー分野で使われる高出力・高周波デバイスにピッタリなんです。

SiCウェハがどんどん使われるようになると、当然、化学機械研磨（CMP）のような超精密な表面仕上げ技術がもっと必要になりますよね。特に、酸化アルミニウムと二酸化マンガンを組み合わせた最適なスラリー組成の研究が進んでいて、材料除去率の向上や、これまでにないほど低い表面粗さを実現できるようになっています。こうした技術の進化が、ウェーハ処理の効率をアップさせ、日本の半導体製造業界で高性能なCMPスラリーへの需要をグッと高めているんです。

半導体業界の最新動向にも注目！

日本のCMPスラリー市場の企業では、最近も色々な動きがありました。

FUJIFILM Corporation: 2025年9月には、複数の半導体チップを一つのパッケージに統合できる先進パッケージング用CMPスラリーを発表しました。このスラリーは、AI半導体の性能向上に欠かせないハイブリッドボンディング技術で、接合面を平坦にするための重要な研磨剤として、大手半導体デバイスメーカーに採用されたそうですよ。
KCTech: 2025年8月からは、世界の半導体大手企業に向けて、先進的なCMP装置とスラリーの供給をスタートさせています。顧客のニーズに合わせたソリューションを提供し、ウェーハの品質や精度、製造歩留まりの向上に貢献する統合ソリューションも提供しているとのことです。

これらの動きを見ると、CMPスラリーが半導体製造の最前線でどれだけ重要か、よくわかりますね！

半導体製造が市場の約7割を占める！

市場を最終用途産業別に見てみると、半導体製造セグメントが圧倒的な強さを見せています。2035年までには、なんと市場全体の67.8%という最大のシェアを獲得すると推定されているんです。これは、政府からの継続的な投資と、様々な重要分野でのチップ需要の増加が背景にあると言えるでしょう。

特に、日本の経済産業省が主導する半導体産業の再活性化への投資は強力な追い風となっています。2023年11月の世界経済フォーラムのデータによると、国内の半導体生産を強化し、サプライチェーンを強靭にするために130億ドル以上が投じられています。TSMCの日本工場やRapidusの先進的な2nmチッププロジェクトなど、主要なプロジェクトへの資金提供も含まれており、これらの取り組みが半導体製造の優位性をさらに強固にし、CMPスラリーの消費を継続的に押し上げていくことでしょう。

東京が市場成長の中心地！

地域別に見ると、東京が予測期間中に最も成長し、最大の市場シェアを占めると予想されています。これは、日本の半導体製造エコシステムの拡大と、先進的なチップ生産への政府の継続的な投資が大きく影響しているためです。

ITAの2025年11月のデータによると、日本の半導体市場は2025年までに510億米ドルを超えると推定されており、特にロジックICやメモリICの製造への投資が増加していることがその主な要因です。さらに、日本政府は国内の半導体産業を強化するため、CMPスラリーを含む製造能力や上流材料の需要を後押しするために、約257億ドルもの予算を割り当てています。

また、日本は2030年までに半導体およびAI開発のために628億米ドル以上という、さらに大規模な戦略的コミットメントを発表しており、ウェハ製造施設の拡大を促進しています。次世代半導体の量産を目指すRapidusの先進チッププログラムなど、主要な取り組みには累積で154億米ドルを超える政府補助金が投入されています。これらの動きは、高精度なウェハ研磨プロセスへの需要を大きく増加させることにつながるでしょう。

先進的なノード製造では、超平坦なウェハ表面とより高度なプロセス制御が求められるため、CMPスラリーの消費量にも影響を与えています。2026年4月のNHKのデータによると、富士通とIBMジャパンを含む共同プロジェクトには、国内の半導体研究開発および生産能力を強化するために4億7700万米ドル相当の追加資金が投入される予定で、これにより半導体製造とCMPスラリー需要の成長において、東京が中心的なハブとしての地位をさらに強固にすることが期待されます。

日本のCMPスラリー市場をリードする企業たち

日本のCMPスラリー市場で特に目覚ましい活躍を見せている企業は以下の通りです。

Fujimi Incorporated
Resonac Corporation
JSR Corporation
AGC SEIMI CHEMICAL Co., Ltd.
Shin Etsu Chemical Co., Ltd.

これらの企業が、日本の半導体産業の発展をCMPスラリーという側面から支えているんですね！

Research Nesterについて

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